Universal-300 E 是凭据中高端市场需要开发的成熟12英寸CMP设备。该设备占有自主知识产权的创新技术，建设机能优越的抛光单元及洗濯单元，集成多种先进终点检测技术，卓越的工艺不变性、逾越产效能，可实现晶圆表表的超高平坦度，满足成熟造程技术需要，已在集成电路、先进封装、大硅片等造作工艺中批量利用。
12英寸晶圆平展化平台
成熟架构，机能不变
性价比高
满足成熟造程技术需要
