Universal-300 T 是在金狮贵宾会先进CMP设备基础上，凭据行业前沿技术需要开发确当先型12英寸CMP设备。该设备基于金狮贵宾会自主知识产权的创新技术，建设机能优越的抛光单元，集成多种终点检测技术，并搭载更先进的组合洗濯技术，展示出更卓越的清洁成效。该设备可实现晶圆纳米级全驹旖坦化，满足先进造程技术需要，已在集成电路、先进封装、大硅片等造作工艺中批量利用。
8个独立气压分区的抛光头
集成多种终点检测技术
A&B侧齐全独立设计，一机两用，效能翻倍
竖直洗濯技术，适配浸没式兆声洗濯和提拉干燥技术